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J-GLOBAL ID：201702219036609060   整理番号：17A0471161

X線光電子分光法(XPS)の焦点におけるC_60クラスタ,ArクラスタとAr~+イオンスパッタリングによって誘起された選択されたZn系腐食生成物の化学的分解【Powered by NICT】

Chemical degradation of selected Zn-based corrosion products induced by C₆₀ cluster, Ar cluster and Ar⁺ ion sputtering in the focus of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)

著者 (7件)： Steinberger R. (Christian Doppler Laboratory for Microscopic and Spectroscopic Material Characterization, Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Sicking J. (Bayer AG, Engineering & Technology, Applied Physics, Chempark Building E 41, 51368 Leverkusen, Germany) ,  Weise J. (Institut fuer Experimentelle Physik, TU Bergakademie Freiberg, Leipziger Strasse 23, 09599 Freiberg, Germany) ,  Duchoslav J. (Christian Doppler Laboratory for Microscopic and Spectroscopic Material Characterization, Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Greunz T. (Christian Doppler Laboratory for Microscopic and Spectroscopic Material Characterization, Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria) ,  Meyer D.C. (Institut fuer Experimentelle Physik, TU Bergakademie Freiberg, Leipziger Strasse 23, 09599 Freiberg, Germany) ,  Stifter D. (Christian Doppler Laboratory for Microscopic and Spectroscopic Material Characterization, Center for Surface and Nanoanalytics, Johannes Kepler University Linz, Altenberger Strasse 69, 4040 Linz, Austria)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 403  ページ： 15-22  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単原子イオンスパッタリングは,前研究表面を洗浄するためにまたはより深い領域からの情報を得るための表面高感度分析法のための一般的な概念である。しかし,材料の重大な損傷-選択的スパッタリング,イオン注入,原子混合と結合して最悪ケースの化学分解は解析の妥当性に影響する可能性がある。,方位角試料回転のないAr~+イオン衝撃の,さらにC_60クラスタエッチングとも重い入射粒子(Xe~+イオン)の適用の影響を概念,破壊以下または調査した材料の化学的性質に重要でない影響を見出すために検討した。本研究では焦点は,亜鉛華および酸化亜鉛,Zn基被覆の二種の一般的な腐食生成物に設定した。要点として,(i)Ar~+イオン,(ii)Arクラスタ,および(iii)ハイドロジンカイトの分解動力学に及ぼすC_60クラスタエッチングから得られた全ての結果に達するスパッタ深さに関して比較した。添加では,三種類全ての方法のスパッタ速度はZnOの実験的に決定した。全体で,完全に非破壊条件を見出すことができなかったが,劣化のタイプと速度,が最も適しているスパッタ概念を選択に必須であるに関する貴重な知識。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 酸化亜鉛 ,  *腐食生成物 ,  イオン注入 ,  *アルゴン ,  被覆 ,  方位角 ,  *イオンビームスパッタリング ,  深さプロフィル ,  高感度 ,  *X線光電子分光法 ,  イオン衝突 ,  *亜鉛 ,  *スパッタリング ,  *クラスタ
準シソーラス用語： 単一原子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： XPS ,  化学的分解 ,  深さプロファイリング ,  イオンスパッタリング ,  ガスクラスタスパッタリング ,  スパッタ誘起損傷

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (11件)： X線光電子分光法 ,  XPS ,  焦点 ,  クラスタ ,  Ar ,  イオンスパッタリング ,  誘起 ,  Zn ,  腐食生成物 ,  化学 ,  分解