柔軟なポリエチレンテレフタレート基板上への高周波プラズマスパッタWO_3薄膜のエレクトロクロミック特性【Powered by NICT】

Eren Esin; Karaca Gozde Yurdabak; Koc Umran; Oksuz Lutfi; Oksuz Aysegul Uygun

文献

J-GLOBAL ID：201702219301722425 整理番号：17A1056794

柔軟なポリエチレンテレフタレート基板上への高周波プラズマスパッタWO_3薄膜のエレクトロクロミック特性【Powered by NICT】

Electrochromic characteristics of radio frequency plasma sputtered WO₃ thin films onto flexible polyethylene terephthalate substrates

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資料名：
巻： 634 ページ： 40-50 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

酸化タングステン(WO_3)薄膜は高エレクトロクロミック性能目的のための無線周波数マグネトロンスパッタリングを用いたフレキシブル基板上に堆積した。柔軟性酸化タングステン膜のエレクトロクロミック特性に及ぼす非水電解質(過塩素酸リチウム(LiClO_4),リチウムトリフルオロメタンスルホナート(LiTRIF))及びエレクトロクロミック厚さ層の両方の影響を調べた。蒸着膜特性を,サイクリックボルタンメトリー,走査電子顕微鏡およびX線回折を用いて測定した。エレクトロクロミックコントラスト,着色効率,スイッチング時間のようなエレクトロクロミックデバイス特性はWO_3膜厚の関数として決定した。465 nm WO_3膜を用いたエレクトロクロミックデバイスで得られた高速スイッチング時間(漂白時間(t_b):5.88秒,着色時間(t_c):1.6s)。WO_3膜(465nm)の可逆性とスイッチング時間特性をLiClO_4とLiTRIF液体電解質媒体と比較した。82%の高い可逆性と3mA/cm~2の良好な電流密度はLiTRIF電解質溶液におけるWO_3膜を含む装置により得られた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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電気光学効果,磁気光学効果 , 酸化物薄膜

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