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J-GLOBAL ID：201702220499984527   整理番号：17A1153801

次世代を見据えたEUVリソグラフィの進展

著者 (1件)： 鈴木章義 (ギガフォトン)
資料名： 光アライアンス  (Optical Alliance)
巻： 28  号： 10  ページ： 45-51  発行年： 2017年10月01日 
JST資料番号： L1746A  ISSN： 0917-026X  CODEN： HARAEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： EUVは短波長で10nm台の結像性能が実証され,実用化の足かせとなっていた光源も目標値が見えて実用化が議論できる段階になった。本稿では,EUV開発の問題点と現状の進展,今後の展開について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  画像特性 ,  光源 ,  極端紫外線
準シソーラス用語： *次世代 ,  *EUVリソグラフィー ,  EUV光源

分類 (3件)： 赤外・遠赤外領域の測光と光検出器  (BD07032W) ,  X線技術  (BA02060D) ,  科学写真  (ZA04040T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 次世代 ,  EUVリソグラフィ ,  進展