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J-GLOBAL ID:201702220545439626   整理番号:17A0950442

ハイブリッドPN接合およびCMOSインバータ用の2次元MoTe2とInGaZnO薄膜材料の結合

Coupling Two-Dimensional MoTe2 and InGaZnO Thin-Film Materials for Hybrid PN Junction and CMOS Inverters
著者 (6件):
資料名:
巻:号: 18  ページ: 15592-15598  発行年: 2017年05月10日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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従来のフォトリソグラフィーでパターン化したアモルファス(α)n型薄膜InGaZnO(IGZO)上に直接インプリンティング法(ドライトランスファー)によりα-p型MoTe2遷移金属ジカルコゲナイド(TMD)ナノ剥片を結合することで二次元(2D)TMD-IGZOハイブリッドPN接合ダイオードを作製した。また原子層堆積法によりパターン化したIGZOチャンネルにゲート誘電体Al2O3薄層を堆積し,その上にα-MoTe2ナノ剥片を結合する方法でCMOSインバータを作製した。2Dナノシート・酸化物薄膜ハイブリッドCMOSインバータは,5Vで約40の高い電圧利得,1Vで数nW未満の低消費電力,約200μsのスイッチング・ダイナミックスを示した。ハイブリッドPN接合ダイオードは1.57の良好な理想係数と約3×104の非常に高いON/OFF整流比を示した。光照射下ではハイブリッドPNダイオードは青色と紫外の高エネルギー光子にのみに応答し幾分安定しているように思われる。
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分類 (2件):
分類
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半導体薄膜  ,  13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合 
タイトルに関連する用語 (3件):
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