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J-GLOBAL ID：201702222524714633   整理番号：17A1449605

光触媒TiO₂薄膜への加熱を伴うO₂DBDプラズマ処理効果

著者 (6件)： 川上烈生 (徳島大) ,  新部正人 (兵庫県大 高度研) ,  中野由崇 (中部大) ,  芳谷勇樹 (徳島大) ,  東知里 (徳島大) ,  向井孝志 (日亜化学)
資料名： 電気関係学会四国支部連合大会講演論文集(CD-ROM)  (Shikoku-Section Joint Convention Record of the Institutes of Electrical and Related Engineers (CD-ROM))
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.2-15  発行年： 2017年09月16日 
JST資料番号： L1738B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *光触媒 ,  *セラミック膜 ,  *加熱 ,  *酸素 ,  *無声放電 ,  *プラズマ処理 ,  表面処理 ,  焼なまし ,  気圧 ,  圧力 ,  ガス圧 ,  *酸化チタン薄膜
準シソーラス用語： *TiO2フィルム

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  プラズマ応用  (BJ02110K) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 光触媒 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  プラズマ処理