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J-GLOBAL ID：201702223203755400   整理番号：17A0966360

残留応力の存在下でマイクロ光学機械圧力センサのモデリングと設計【Powered by NICT】

Modelling and design of Micro-Opto-Mechanical Pressure Sensors in the presence of residual stresses

著者 (12件)： Rochus V. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Jansen R. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Haouari R. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Figeys B. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Mukund V. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Verhaegen F. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Goyvaerts J. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Neutens P. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  O’ Callaghan J. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Stassen A. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Lenci S. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven) ,  Rottenberg X. (Imec, Belgium, Kapeldreef 75, 3001 Leuven)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： EuroSimE  ページ： 1-5  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiN集積フォトニックプラットフォームで製造されたマイクロ光機械的圧力センサ(MOMPS)のモデリングを提示した。単一波長Mach-Zehnder干渉計(MZI)を用いて実現された,CMOSに直接集積できることを単一読出し検出器に依存している。電流フォトニックプロセスは,高感度膜で高い残留応力を示した。本論文では,膜中の残留応力および光回路の損失を考慮した解析モデルに焦点を当て論じた。圧縮応力を考慮すると解析モデルは,実験測定値と比較した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 検出器 ,  光回路 ,  波長 ,  *残留応力 ,  解析モデル ,  干渉計 ,  電流 ,  *圧力センサ ,  圧縮応力 ,  CMOS ,  高感度 ,  *モデリング
準シソーラス用語： 読出し , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 旋削,中ぐり  (QC02020G) ,  金属材料  (HC02020X)

タイトルに関連する用語 (5件)： 残留応力 ,  光学 ,  圧力センサ ,  モデリング ,  設計