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J-GLOBAL ID：201702223940186023   整理番号：17A1511872

工業用水の一生 電子産業(主に半導体産業)の工場から排出される排水の種類及び基本的な処理方法について

著者 (1件)： 橋田拓哉 (三菱ケミカルアクア・ソリューションズ)
資料名： 化学工学  (Chemical Engineering of Japan)
巻： 81  号： 11  ページ： 629-632  発行年： 2017年11月05日 
JST資料番号： F0099A  ISSN： 0375-9253  CODEN： KKGKA4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子産業の工場から排出される排水の代表例をまとめた。各種排水の処理方法について述べた。1)フッ素排水処理(沈降分離・凝集処理:汚泥削減),2)有機排水処理(標準活性汚泥法とMBR法の比較),3)窒素廃水処理(生物学的脱窒素法,アンモニアストリッピング法,不連続点塩素処理法,イオン交換法),4)研磨および研磨屑等の汚濁排水,5)過酸化水素含有排水,6)シアン含有排水,7)クロム含有排水。

シソーラス用語： *半導体工業 ,  半導体プロセス ,  *廃水処理 ,  活性汚泥法 ,  汚泥処理 ,  凝集処理 ,  除去 ,  脱窒素 ,  膜濾過 ,  水質汚濁物質 ,  研磨 ,  沈殿 ,  有機酸 ,  無機化合物 ,  有害物質 ,  工業用水
準シソーラス用語： *産業廃水処理 ,  MBR【活性汚泥法】 ,  生物学的脱窒素 ,  凝集沈殿

分類 (1件)： 産業廃水処理  (SC03080D)

引用文献 (3件)：

• 鳴門智:半導体工場の廃水処理とその管理,pp.260-270
• 特開2008-237947(2005)
• 公害防止の技術と法規編集委員会編:新・公害防止の技術と法規2011水質編II, pp.212-226,産業環境管理協会(2011)

タイトルに関連する用語 (6件)： 工業用水 ,  電子産業 ,  半導体産業 ,  工場 ,  排水 ,  処理方法