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J-GLOBAL ID：201702224400636398   整理番号：17A0011890

中・遠赤外メタマテリアルを目指す耐火物薄膜の微細加工技術の開発

著者 (5件)： 島田敏宏 (北大) ,  高見拓哉 (北大) ,  田村貴大 (北大) ,  柳瀬隆 (北大) ,  長浜太郎 (北大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 29th  ページ： ROMBUNNO.2R22  発行年： 2016年08月29日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *人工材料 ,  微細加工 ,  電磁波 ,  *耐火物 ,  *セラミック膜 ,  薄膜 ,  複合膜 ,  モリブデン ,  ケイ素 ,  スパッタリング ,  アルミナ ,  RIE【エッチング】 ,  回折 ,  格子構造 ,  発光スペクトル ,  素子構造 ,  焼なまし ,  *メタマテリアル
準シソーラス用語： 共スパッタリング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 遠赤外 ,  メタマテリアル ,  耐火物 ,  薄膜 ,  微細加工技術 ,  開発