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J-GLOBAL ID：201702225247341764   整理番号：17A1374974

温度応答性高分子を用いたフォトニック結晶の作製

著者 (4件)： 櫻井友紀也 (東京工大) ,  PARK Jongho (東京工大) ,  初澤毅 (東京工大) ,  柳田保子 (東京工大)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.N20  発行年： 2017年09月05日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,温度応答性ゲルを用いることで,フォトニック結晶のナノ周期構造を温度変化により任意に変更できる蛍光測定デバイスの作製を目的とする。フォトニック結晶の光学特性は,ナノ周期構造に依存するためひとつのデバイスでは限られた蛍光波長のみ計測可能である。そこでナノインプリント法により温度応答性ゲルにナノ構造を転写することで,温度変化により計測波長を任意に変更できるデバイスを作製した。(著者抄録)

シソーラス用語： 刺激応答性高分子 ,  ゲル ,  *フォトニック結晶 ,  パターン転写 ,  ナノ構造 ,  *可変性 ,  温度変動 ,  ウエハ【IC】 ,  ポリジメチルシロキサン ,  光学的性質 ,  温度依存性 ,  *熱応答 ,  *ポリイソプロピルアクリルアミド ,  リソグラフィー ,  高分子薄膜 ,  スピンコーティング
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  温度応答 ,  温度応答性高分子 ,  光ナノインプリント ,  紫外線リソグラフィー ,  *波長可変

分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

引用文献 (3件)：

• 迫田 和彰: フォトニック結晶入門,森北出版株式会社 (2004)
• A. Sharon, D. Rosenblatt, and A. A. Friesem: Resonant grating-waveguide structures for visible and near-infrared radiation, J. Opt. Soc. Am. A Opt. Image Sci. Vis, 11, 2985-2993 (2015)
• H Ichikawa and T Baba: Appl. Phys. Lett, 84, 457-459 (2004)

タイトルに関連する用語 (3件)： 温度応答性高分子 ,  フォトニック結晶 ,  作製