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J-GLOBAL ID：201702225278469613   整理番号：17A0618678

反応性高出力パルスマグネトロンスパッタリングにおけるイオンエネルギー分布に及ぼす窒素混合物のアルゴンへの影響

Influence of nitrogen admixture to argon on the ion energy distribution in reactive high power pulsed magnetron sputtering of chromium

著者 (4件)： BREILMANN W (Ruhr-Univ. Bochum, Bochum, DEU) ,  MASZL C (Ruhr-Univ. Bochum, Bochum, DEU) ,  HECIMOVIC A (Ruhr-Univ. Bochum, Bochum, DEU) ,  KEUDELL A von (Ruhr-Univ. Bochum, Bochum, DEU)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 50  号： 13  ページ： 135203,1-12  発行年： 2017年04月05日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)プラズマは,高度のイオン化および非常に活発な金属成長フラックスによって特徴付けられ,優れた材料特性をもたらす。本稿では,HiPIMSプラズマにおける成長フラックスが,プラズマガスとしてアルゴンのみを使用する非反応プロセスから,窒素ガスのみを使用する非常に反応性の高いプロセスに移行する際に,どのように影響を受けるかという問題に取り組んだ。ここに示されたデータは,プラズマトーラス中のイオン化された金属イオンによるスパッタされた金属種の散乱が効率的になるように,プラズマ密度が特定の閾値を上回る場合に確立できるHiPIMSプラズマにおける自己散乱領域の存在を示している。この自己散乱は,エネルギー空間におけるイオンの再分布と,基材への指向性の低下した磁束を引き起こす。プラズマ密度は,プラズマ電力を増加させることによって,またはイオン化領域におけるプラズマの局在によって変えることができた。局在した金属プラズマのプラズマインピーダンスは,分子反応性ガスからのプラズマのプラズマインピーダンスよりもはるかに小さいので,この局在化は反応性プラズマの場合に強化された。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  *プラズマ ,  *エネルギー分布 ,  気体 ,  アルゴン ,  効率 ,  金属イオン
準シソーラス用語： パルスプラズマ ,  イオンエネルギー分布 ,  窒素ガス ,  イオン化効率

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  固体-プラズマ相互作用  (BJ02033W) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (8件)： 反応性 ,  高出力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  イオンエネルギー分布 ,  窒素 ,  混合物 ,  アルゴン