文献
J-GLOBAL ID:201702225693671199   整理番号:17A0934968

プラズマ増強化学蒸着プロセスにおける気体および固体原料の同時給与によるナノ粒子を包埋した薄膜の作製【Powered by NICT】

Preparation of nanoparticle-embedded thin films by simultaneous feeding of gaseous and solid raw materials in plasma-enhanced chemical vapor deposition process
著者 (3件):
資料名:
巻: 632  ページ: 55-65  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
シリカ(SiO_2)ナノ粒子が埋め込まれている(SiO_2/TiO_2膜)チタニア(TiO_2)膜を新しいエアロゾル化法とプラズマ増強化学蒸着(PECVD)の組み合わせにより調製した。マイクロ波プラズマ場におけるチタンテトライソプロポキシド(TTIP)を用いて,アナターゼ膜は,シリコンと石英ガラス基板上に作製した。プラズマ場における荷電液滴のCoulomb爆発を利用することにより,よく分散したSiO_2ナノ粒子のエーロゾルは,ナノ粒子懸濁液の噴霧液滴の崩壊から得られる。気体原料とSiO_2ナノ粒子エーロゾルとして固体原料としてTTIP蒸気の同時供給は多くの突起をもつSiO_2/TiO_2膜の調製を可能にした。突起の数と大きさは,ナノ粒子懸濁液の濃度を増加させるとナノ粒子のサイズの増加と共に増加した。ナノ粒子の大きさはSiO_2/TiO_2膜の表面粗さに関係している。突起の定量的評価はSiO_2ナノ粒子上の突起進展の機構をナノ粒子のサイズによって変化することを示唆した。TiO_2膜への埋込みSiO_2ナノ粒子はTiO_2~ のみ膜のそれと比較して光触媒活性を増強する突起が膜の表面積を増加させるためと考えられる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化物薄膜  ,  有機化合物の薄膜 

前のページに戻る