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J-GLOBAL ID:201702225738096958   整理番号:17A1550654

電子ビーム蒸着によるSi基板上に成長させたFeドープZnO薄膜ナノワイヤの光学的性質と形態に及ぼすシード層(Al, Ti)の影響【Powered by NICT】

Effect of seed layers (Al, Ti) on optical and morphology of Fe-doped ZnO thin film nanowires grown on Si substrate via electron beam evaporation
著者 (8件):
資料名:
巻: 71  ページ: 296-303  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1055A  ISSN: 1369-8001  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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AlとTiシード層の効果を,電子ビーム(eビーム)蒸着によりn型Si基板上に堆積した非ドープおよびFeドープZnO薄膜について研究した。膜をX線回折(XRD),電界放出走査電子顕微鏡(FE SEM)と透過型電子顕微鏡(TEM)によって特性化した。シード層上に成長させた膜はウルツ鉱型六方晶結晶ナノロッドとナノワイヤ構造を示した。純粋なZnO膜と比較して,ドープした薄膜で観察された高い角位相シフト。微細構造の研究は,平均幅~32nmと~829nmのナノロッドとナノワイヤの成長を確認した。ナノ構造は緻密でドープした薄膜のTiシード層よりもAlシード層に結晶であった。しかし,アンドープ薄膜における,Alシード層よりもTiシード層上に観察されたより結晶性の性質。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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固体デバイス材料  ,  太陽電池 
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