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J-GLOBAL ID：201702226949494234   整理番号：17A0502601

AlドープZnO/Y₂O₃多層膜の熱電気的特性化と構造特性化

Thermoelectric and Structural Characterization of Al-Doped ZnO/Y₂O₃ Multilayers

著者 (8件)： MELE P. (Muroran Inst. of Technol., Muroran, JPN) ,  SAINI S. (Univ. Utah, Utah, USA) ,  TIWARI A. (Univ. Utah, Utah, USA) ,  HOPKINS P. E. (Univ. Virginia, Virginia, USA) ,  MIYAZAKI K. (Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu, JPN) ,  ICHINOSE A. (Central Res. Inst. of Electric Power Ind. (CRIEPI), Yokosuka, JPN) ,  NIEMELAE J. (Aalto Univ., Espoo, FIN) ,  KARPPINEN M. (Aalto Univ., Espoo, FIN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 17  号： 3  ページ： 1616-1621  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N型半導体であるZnOは様々な用途に利用されている。さらに,ZnOは光電気用の良好な候補であると認められている。本研究では,Aloを0.2%ドープしたZn_0.98Al_0.02O(AZO)の熱電気的性能と構造に及ぼすY₂O₃ナノ層の影響を調べた。AZO/Y₂O₃多層膜はパルスレーザ蒸着によりAl₂O₃単結晶上に作製した。500nmのAZO膜中に薄いY₂O₃ナノ層を挿入した。最良の性能を示した多層膜のSeebeck係数はS=-82kV/K,電気伝導率はσ=48S/cm,推定した力率(S²σ)は600Kで約0.03×10^-3Wm^-1K^-2であった。300Kにおける熱伝導率は10.03Wm^-1K^-1で,バルクAZOの約1/3であった。

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  半導体材料 ,  アルミニウム ,  ドーピング ,  *多層膜 ,  パルスレーザ蒸着 ,  電気的性質 ,  熱電効果 ,  ナノ構造 ,  超薄膜 ,  *酸化イットリウム ,  熱伝導率 ,  散乱 ,  ナノシート
準シソーラス用語： ナノ薄膜 ,  フォノン散乱 ,  熱電気的性質

分類 (1件)： 電気的性質  (WB02010Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： AlドープZnO ,  Y2O3 ,  多層膜 ,  電気的特性 ,  構造特性