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J-GLOBAL ID：201702227501638326   整理番号：17A1633537

バイアスターゲット上のイオンビームモニタリング【Powered by NICT】

Ion Beam Monitoring Over a Biased Target

著者 (4件)： Lopes J. (GIAAPP/ISEL, Instituto Superior de Engenharia de Lisbon, Lisbon, Portugal) ,  Rocha J. (Instituto de Plasmas e Fusao Nuclear of Instituto Superior Tecnico, Universidade de Lisbon, Lisbon, Portugal) ,  Catarino N. (Instituto de Plasmas e Fusao Nuclear of Instituto Superior Tecnico, Universidade de Lisbon, Lisbon, Portugal) ,  Peres M. (Instituto de Plasmas e Fusao Nuclear of Instituto Superior Tecnico, Universidade de Lisbon, Lisbon, Portugal)
資料名： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Transactions on Plasma Science)
巻： 45  号： 10  ページ： 2767-2772  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 特別に設計したビームプロファイルモニタ(BPM)は,バイアス印加ターゲット板上の集合,ビーム分散によるビームフルエンスに対するイオンビーム減速システムの効果を研究する目的で作製した。新しいB PMは可能な限り平坦形状を開発したので,ターゲット形状に影響する,高分解能ビームプロファイルを生産するためのスリットスキャン方式を用いずにバイアスされたターゲット板に付着することができた。システムは,リスボンにおけるLaborato’rio de中央加速器e Tecnologias de radiac,Instituto Superior Teのcnicoの o,キャンパスTecnolo’gico e核で,で高電流イオン注入装置における設計し設置した。システムは,15keV以下の低エネルギーイオンビームのイオンビームプロファイルを示すことができ,ビーム減速系を用いた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 加速器 ,  高分解能 ,  電流 ,  *イオンビーム ,  *バイアス ,  イオン注入
準シソーラス用語： 低エネルギーイオン ,  ビームプロファイル ,  印加電圧 ,  ビームプロファイルモニタ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  プラズマ応用  (BJ02110K)

タイトルに関連する用語 (4件)： バイアス ,  ターゲット ,  イオン ,  ビームモニタリング