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J-GLOBAL ID：201702228353914441   整理番号：17A1282813

液滴錫ターゲットLPP-EUVL光源多層膜に基づくスパッタ損傷研究【JST・京大機械翻訳】

Sputtering damage of multilayer coatings for LPP-EUVL light source based on Sn droplet target

著者 (2件)： Wu Tao (武漢工程大学理学院,武漢,430205) ,  Yao Shuan (武漢工程大学理学院,武漢,430205)
資料名： Huazhong Shifan Daxue Xuebao (Ziran Kexue Ban)  (Huazhong Shifan Daxue Xuebao (Ziran Kexue Ban))
巻： 51  号： 2  ページ： 162-167  発行年： 2017年 
JST資料番号： C3250A  ISSN： 1000-1190  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： Navier-Stokes方程式の自己相似解に基づき、最小質量制限液滴Snターゲットのレーザープラズマの高エネルギーイオンの時空分布特性を研究し、高エネルギーイオン砕屑エッチングによる極端紫外リソグラフィー(EUVL)光源収集鏡の寿命の評価に応用した。異なる断熱膨張指数(γ=1.67,1.3,1.1)に対して,プラズマの平均イオン化度,プラズマプルームのサイズ,プルームの膨張速度,およびイオン運動エネルギーの時間発展を数値的に計算した。高エネルギーSnイオンのフラックスの角分布及びそのスパッタスパッタRu、Mo及びSi膜のスパッタリング収率及びスパッタエッチング速度を得た。研究により、レーザー液滴のプラズマ中の高エネルギーSnイオンがMo、Si多層膜のスパッタエッチング率の角分布はcos3θの関係を満たすことが分かった。EUVL光源に対して、EUV収集鏡の寿命を延長するために、レーザープラズマの電離度を下げ、最小限の液滴を用いてSnターゲットを制限することは有効な方法である。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *スズ ,  *液滴 ,  イオン ,  極端紫外線 ,  *光源 ,  イオンエッチング ,  角分布 ,  *多層膜 ,  レーザ ,  時間発展 ,  レーザプラズマ ,  ケイ素 ,  プルーム
準シソーラス用語： 高エネルギー ,  *極端紫外線リソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： laser produced plasma ,  self-similar expansion ,  ion debris ,  sputtering yield ,  EUVL

分類 (3件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  プラズマ一般  (BJ02010B) ,  プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (7件)： 液滴 ,  錫 ,  ターゲット ,  多層膜 ,  スパッタ ,  損傷 ,  研究