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J-GLOBAL ID：201702228520755985   整理番号：17A1811133

交互蒸着による,高い硫黄含有量の正方晶FeSe-FeS合金膜の生成

Fabrication of tetragonal FeSe-FeS alloy films with high sulfur contents by alternate deposition

著者 (3件)： FUJIWARA Kohei (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHIOGAI Junichi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TSUKAZAKI Atsushi (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 10  ページ： 100308.1-100308.3  発行年： 2017年10月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ蒸着法による,正方晶FeS_xSe_1-x膜(x<=0.78)の合成について報告する。正方晶FeSeと六方晶FeSとのターゲットを用いて正方晶合金膜を作製するために,MgO(001)上のFeSeバッファ層を用いて交互蒸着法を適用した。膜全体の組成は,FeS/FeSe層の膜厚比によって制御した。薄膜の面外の格子パラメータはVegard則に従い,相互拡散による均一な合金化を示している。FeS_xSe_1-x膜における硫黄の固相溶解度はx=0.78に達し,正方晶相不安定化により決まるバルクにおけるx~0.40よりはるかに高い。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *パルスレーザ蒸着 ,  薄膜成長 ,  正方晶系 ,  *鉄化合物 ,  硫化物 ,  *セレン化物 ,  *硫化鉄 ,  *固溶体 ,  *蒸着膜 ,  化学組成 ,  膜厚 ,  格子定数 ,  法則 ,  *相互拡散 ,  溶解度 ,  硫黄 ,  *バッファ層
準シソーラス用語： 交互蒸着 ,  セレン化鉄 ,  Vegard則

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (22件)：

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タイトルに関連する用語 (6件)： 蒸着 ,  硫黄 ,  含有量 ,  正方晶 ,  FES ,  合金