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J-GLOBAL ID：201702228698533719   整理番号：17A1819438

TEMおよびab initio計算と結びつけた原子プローブトモグラフィーを用いたシリコンインゴット中の傾角粒界での酸素偏析のナノスケール解析【Powered by NICT】

Nanoscopic analysis of oxygen segregation at tilt boundaries in silicon ingots using atom probe tomography combined with TEM and ab initio calculations

著者 (14件)： OHNO Y. (Institute for Materials Research, Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan) ,  INOUE K. (Institute for Materials Research, Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan) ,  FUJIWARA K. (Institute for Materials Research, Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan) ,  KUTSUKAKE K. (Institute for Materials Research, Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan) ,  DEURA M. (Institute for Materials Research, Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan) ,  YONENAGA I. (Institute for Materials Research, Tohoku University, Katahira 2-1-1, Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan) ,  EBISAWA N. (The Oarai Center, Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Oarai, Ibaraki, 311-1313, Japan) ,  SHIMIZU Y. (The Oarai Center, Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Oarai, Ibaraki, 311-1313, Japan) ,  INOUE K. (The Oarai Center, Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Oarai, Ibaraki, 311-1313, Japan) ,  NAGAI Y. (The Oarai Center, Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University, Oarai, Ibaraki, 311-1313, Japan) ,  YOSHIDA H. (The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka, 567-0047, Japan) ,  TAKEDA S. (The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka, 567-0047, Japan) ,  TANAKA S. (Department of Energy and Environment, Research Institute of Electrochemical Energy, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-8-31 Midorigaoka, Ikeda, Osaka, 563-85777, Japan) ,  KOHYAMA M. (Department of Energy and Environment, Research Institute of Electrochemical Energy, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-8-31 Midorigaoka, Ikeda, Osaka, 563-85777, Japan)
資料名： Journal of Microscopy  (Journal of Microscopy)
巻： 268  号： 3  ページ： 230-238  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0454B  ISSN： 0022-2720  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子プローブ断層撮影および走査透過型電子顕微鏡を併用した同じナノスケール位置で同じ傾角粒界(TB)に及ぼす偏析レベルを決定するための解析的方法を開発し,TB周りの結合歪の観点からシリコンインゴットにおけるTBでの酸素偏析の機構を考察した。酸素原子の三次元分布を,高空間分解能(約0.4nm)と同時に低不純物検出限界(TB面に0.01at.%)を原子プローブトモグラフィーにより典型的な中小大角度TBで決定した。三次元分布をTBの周りの原子応力と相関していた大角TBでの応力は,原子的分解能走査透過型電子顕微鏡データに基づくab initio計算により推定し,小角TBでは暗視野透過型電子顕微鏡データに基づく弾性理論を用いて計算した。酸素原子は約2GPa以上の引張応力下での結合中心サイトに偏析,局所応力を減少させることにより,より安定な結合ネットワークを達成できるようにした。単位TB面積N_GB(原子におけるnm~ 2)で分離する酸素原子の数はN_GB~50n_bc[O_i]とTB[O_i](at.%)周辺ユニットTB面積n_bcにおける引張応力下で原子サイトの数と酸素原子の平均濃度の両方に比例することを決定した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 弾性力学 ,  透過型電子顕微鏡 ,  不純物 ,  三次元 ,  引張応力 ,  *偏析 ,  *酸素 ,  分解能 ,  検出限界 ,  *結晶粒界
準シソーラス用語： 酸素原子 ,  *ナノスケール ,  *傾角粒界 ,  *原子プローブトモグラフィー ,  *第一原理計算 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： ab initio ,  原子静水圧応力 ,  原子プローブトモグラフィー ,  粒界 ,  HAADF-STEM ,  酸素偏析 ,  シリコン

分類 (1件)： 顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (10件)： TEM ,  計算 ,  原子プローブトモグラフィー ,  シリコン ,  インゴット ,  傾角粒界 ,  酸素 ,  偏析 ,  ナノスケール ,  解析