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J-GLOBAL ID：201702229657809006   整理番号：17A1906960

リソグラフィ応用における精度向上のための画像に基づくアライメントの特性研究

Characteristic study of image-based alignment for increasing accuracy in lithography application

著者 (4件)： Zhang Libin (Integrated Circuit Advanced Process Center, Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, No. 3, Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Dong Lisong (Integrated Circuit Advanced Process Center, Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, No. 3, Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Su Xiaojing (Integrated Circuit Advanced Process Center, Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, No. 3, Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China) ,  Wei Yayi (Integrated Circuit Advanced Process Center, Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, No. 3, Bei-Tu-Cheng West Road, Beijing 100029, China and School of Microelectronics, University of Chinese Academy of Sciences, No. 19(A), Yuquan Road, Beijing 100049, China)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35  号： 6  ページ： 061601-061601-8  発行年： 2017年11月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 画像によるオーバーレイとアライメントは,ウエハ位置を正確に見出す有効な技術である。リソグラフィ応用のために,アライメント精度を向上させ,アライメント許容差を減少させる方法は重要かつ挑戦的であり,より広い局面においてこの問題を考えるために更なる研究が必要である。このことを考慮して,画像によるアライメントの内部特性を,位相差のみを伴う場合,および出力と位相とに差を伴う場合を調べることによって,本論文で研究した。その研究に基づいて,いくつかの推奨できる結論を提案した。位相差のみを伴う場合,マーク周期は光スポットサイズの約四倍でなければならず,光スポットサイズは高分解能のために最小化する必要があり,サブ波長アライメントマークはその大きな相互相関曲線幅のために使用することは推奨されない。対照的に,出力と位相とに差が応用に存在する場合,サブ波長特性が,最良のアライメント基準波形を選択でき,エッジ形状とマーク厚さの変化に対する高いロバスト性という大きな利点を有している。実際には,測定した波形は,アライメトマーク上の膜の厚さの変化により容易に変化する可能性があり,中心位置検出誤差を生ずる可能性がある。最良の参照波形と中心位置を見出すために実際の波形を伴うすべての最大相互相関値を比較するが,あらゆる形状の参照波形ライブラリを確立する必要があることを示した。画像によるアライメント法は,ほとんどの種類の積層膜に対するロバスト性のために,先進的リソグラフィノードにおいて重要な役割を果たすと考えられる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *改良 ,  *アラインメント ,  *サブ波長 ,  *測定誤差
準シソーラス用語： 検出誤差 ,  *精度向上

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  計測学一般  (AD01000Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： リソグラフィ ,  応用 ,  精度向上 ,  アライメント ,  研究