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J-GLOBAL ID:201702229975865308   整理番号:17A0212801

EWMAラン-ツ-ラン制御を用いた半導体製造プロセスにおけるモデル品質評価【Powered by NICT】

Model Quality Evaluation in Semiconductor Manufacturing Process With EWMA Run-to-Run Control
著者 (5件):
資料名:
巻: 30  号:ページ: 8-16  発行年: 2017年 
JST資料番号: T0521A  ISSN: 0894-6507  CODEN: ITSMED  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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指数関数的加重移動平均のラン-ツー-ラン(EWMA RtR)コントローラは,半導体製造プロセスによく用いられている。モデルベース制御法として,EWMA RtR制御装置の性能はプロセスモデル品質に大きく依存する,プロセスモデル-プラントミスマッチが制御性能に影響する重要な因子である。本論文では,任意の外部励起を導入することなく,提案したEWMA RtR制御による半導体製造プロセスのためのモデル品質評価法。白色雑音配列は最初の直交射影法により通常の閉ループデータから得られた,また擾乱模型は帰納的拡張最小二乗法による出力誤差から推定した。モデル品質変数を障害モデルと出力誤差を用いて定義し,計算した。モデル評価指標を推定白色雑音の分散とモデル品質変数のそれとの間の比を提案した。提案した方法の有効性を工業データに基づいてシミュレートした化学機械研磨過程と浅いトレンチアイソレーションエッチプロセスにより実証した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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