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J-GLOBAL ID：201702230601256287   整理番号：17A1501794

単発,パルス幅依存性超高速レーザアブレーションによって研究した非晶質Si膜における高密度電子-正孔プラズマにおける電子-イオン結合と両極性拡散【Powered by NICT】

Electron-ion coupling and ambipolar diffusion in dense electron-hole plasma in thin amorphous Si films studied by single-shot, pulse-width dependent ultrafast laser ablation

著者 (11件)： Danilov Pavel (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia) ,  Ionin Andrey (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia) ,  Khmelnitskii Roman (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia) ,  Kiseleva Irina (Moscow Institute of Physics and Technology (National University), 141701 Dolgoprudny, Russia) ,  Kudryashov Sergey (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia) ,  Kudryashov Sergey (ITMO University, 197101 St. Petersburg, Russia) ,  Kudryashov Sergey (National Research Nuclear University MEPhI (Moscow Engineering Physics Institute), 115409 Moscow, Russia) ,  Mel’nik Nikolay (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia) ,  Rudenko Andrey (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia) ,  Smirnov Nikita (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia) ,  Zayarny Dmitry (Lebedev Physical Institute, 119991 Moscow, Russia)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 425  ページ： 170-175  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 変数(0.2 6ps)幅のレーザパルスによる50-100と150nm厚さの非晶質シリコン膜の単一ショットアブレーションは0.6psパルス幅とそれに続く増加で最小値とアブレーションしきい値と特性アブレーション1/e半径の非単調変化を示した。より短いレーザパルスで増加したしきい値と強化された輸送は,0.6psでイオンサブシステム(電子-イオン熱化)へのエネルギー移動前高密度過渡的プラズマにおける高速両極性電子-正孔プラズマ拡散と他の電子エネルギー損失に関係する可能性があるが,長いレーザパルスについての適度な密度電子-正孔プラズマ,イオン熱伝導と他の熱損失の遅い両極性拡散が支配的である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *高速度 ,  *イオン ,  *アブレーション ,  *アモルファスシリコン ,  *パルス幅 ,  熱伝導 ,  熱化 ,  *正孔 ,  *両極性拡散 ,  *レーザアブレーション ,  エネルギー移動 ,  *プラズマ ,  レーザパルス
準シソーラス用語： *両極性 ,  *高密度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 薄いa-Si膜 ,  超短レーザパルス ,  単一ショットレーザアブレーション ,  高密度電子-正孔プラズマ ,  電子-フォノン熱化 ,  両極性電子-正孔プラズマ拡散 ,  熱伝導

分類 (1件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (12件)： パルス幅 ,  依存性 ,  超高速レーザ ,  アブレーション ,  研究 ,  非晶質 ,  Si膜 ,  電子 ,  正孔 ,  プラズマ ,  イオン結合 ,  両極性拡散