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J-GLOBAL ID:201702231101353046   整理番号:17A0365297

Ti Cu Zr Ni Hf Si薄膜金属ガラスの機械的及び熱的性質に及ぼす非平衡マグネトロンスパッタリングによるArイオン衝撃の影響【Powered by NICT】

Effects of Ar ion bombardment by unbalanced magnetron sputtering on mechanical and thermal properties of Ti-Cu-Zr-Ni-Hf-Si thin film metallic glass
著者 (2件):
資料名:
巻: 111  ページ: 271-278  発行年: 2016年 
JST資料番号: A0495B  ISSN: 0264-1275  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,構造とTi Cu Zr Ni Hf Si薄膜金属ガラスの機械的及び熱的性質に及ぼす非平衡マグネトロンスパッタリング(UBMS)により蒸着中のArイオン衝撃の影響を調べた。ArはArイオン衝撃のために堆積した膜の非晶質構造中に取り込まれたことを,膜中のAr含有量はArイオン衝撃の強度を制御することで0.2at%から14.7at%に変化できることが分かった。膜の熱安定性は,衝撃プロセスにより改善された。さらに,膜の表面と断面の形態は,衝撃強度の増加と共に非常に滑らかで高密度になった。一方,非晶質構造の密度はAr含有量の増加とともに減少した。硬さとYoung率は,Arイオン衝撃の強度と共に変化した。膜硬さの変化は膜中の残留応力の変化に起因する。UBMSによる蒸着中のArイオン衝撃は構造と薄膜金属ガラスの機械的および熱的特性を改善するための有用な方法である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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