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J-GLOBAL ID：201702231848738978   整理番号：17A0527107

ガラスの中のマイクロ流体システムの迅速製作のためのフォトグラフィー無レーザパターンフッ化水素酸耐酸性クロムポリイミドマスク

Photolithography-free laser-patterned HF acid-resistant chromium-polyimide mask for rapid fabrication of microfluidic systems in glass

著者 (3件)： ZAMURUYEV Konstantin O (Univ. California, CA, USA) ,  ZRODNIKOV Yuriy (Univ. California, CA, USA) ,  DAVIS Cristina E (Univ. California, CA, USA)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 27  号： 1  ページ： 015010,1-10  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 湿式エッチングを使用した,ガラスの中におけるマイクロ流体システムの迅速プロトタイピングのための,クロム金属層と接着ポリイミドテープを有するガラスマスキング法を検討した。Schott Borofloat 33ガラスにおいて,298μmの最も深い平均エッチングを達成した。レーザとマスキング材料の制限で,最小形状分解能は40μmである。提案方法は高い再現性と信頼性を有する。60以上の基板が,49%フッ化水素酸の中で準備され,エッチングされた。単に2個のマスクが失敗しただけであった。クリーンルームなしで提案製造方法を適用することができる。

シソーラス用語： *マイクロ流体デバイス ,  *ガラス ,  ポリイミド ,  型 ,  *マスキング ,  *レーザ加工 ,  エッチング
準シソーラス用語： マスクパターン ,  フッ化水素酸

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： ガラス ,  マイクロ流体システム ,  製作 ,  フォトグラフィー ,  レーザ ,  フッ化水素酸 ,  耐酸性