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J-GLOBAL ID：201702231959879580   整理番号：17A1127297

低圧化学蒸着により合成したHf(Ta)Cセラミックコーティングの微細構造と成長挙動【Powered by NICT】

Microstructure and growth behavior of Hf(Ta)C ceramic coating synthesized by low pressure chemical vapor deposition

著者 (6件)： Li Zehao (State Key Laboratory of Powder Metallurgy, Central South University, Changsha, 410083, PR China) ,  Wang Yalei (State Key Laboratory of Powder Metallurgy, Central South University, Changsha, 410083, PR China) ,  Xiong Xiang (State Key Laboratory of Powder Metallurgy, Central South University, Changsha, 410083, PR China) ,  Li Xiaobin (School of Metallurgy and Environment, Central South University, Changsha, 410083, PR China) ,  Chen Zhaoke (State Key Laboratory of Powder Metallurgy, Central South University, Changsha, 410083, PR China) ,  Sun Wei (State Key Laboratory of Powder Metallurgy, Central South University, Changsha, 410083, PR China)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 705  ページ： 79-88  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Hf(Ta)Cセラミック被覆は,ハロゲン化ハフニウム,ハロゲン化タンタル,メタン,水素およびアルゴンの混合ガスを用いた低圧化学蒸着によりグラファイト上に合成した。調製されたままの皮膜の相組成とミクロ組織をX線回折(XRD),X線光電子分光法(XPS),走査電子顕微鏡(SEM)および透過型電子顕微鏡(TEM)により調べた。コーティングの成長挙動も議論した。結果は,作製したままの被覆はナノサイズHf_0 7Ta_0-0.3C固溶体から成り,炭素の稀なことを示した。Hf(Ta)C被覆は非晶質炭素に取込んだHf_0 7Ta_0-0.3C粒子を含むナノ複合構造,Hf_1 xTa_xCの急速な核形成だけでなく,Hf_1 xTa_xC粒の成長中の炭素の阻害に寄与することができるを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： グラファイト ,  ハロゲン化 ,  X線光電子分光法 ,  *LPCVD ,  固溶体 ,  *ハフニウム ,  アルゴン ,  *セラミック被覆 ,  炭素 ,  相組成 ,  *タンタル ,  透過型電子顕微鏡 ,  混合気体 ,  *微細構造
準シソーラス用語： アモルファスカーボン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： XRD ,  TEM ,  Microstructure ,  成長挙動 ,  Hf(Ta)C被覆

分類 (1件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低圧化学蒸着 ,  HF ,  Ta ,  セラミックコーティング ,  微細構造 ,  成長 ,  挙動