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J-GLOBAL ID：201702231988272911   整理番号：17A0576594

自律的欠陥探索・分裂型マルチプローブによるナノ異物検出に関する研究(第5報)-位相利用高感度観察装置による検出-

著者 (5件)： 橘一輝 (東大) ,  浅井祥平 (東大) ,  道畑正岐 (東大) ,  高増潔 (東大) ,  高橋哲 (東大)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.D15  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 基板上微細加工技術の進歩に伴い,製造プロセス中で応用可能な基板上ナノ異物検出法が求められている。そこで我々は,高感度性や高速計測性といった特性を備えた,揮発性液体をプローブとして用いる全く新しい原理に基づいた光学的ナノ異物検出手法を提案している。本報では,落射照明型位相差顕微鏡を用いた液相界面挙動高感度観察装置を構築し,検出特性の実験的検証,および通常観察と比較した結果を示す。(著者抄録)

シソーラス用語： *プローブ ,  *欠陥 ,  *捜索 ,  技術 ,  *微細加工 ,  *生産工程 ,  *高感度 ,  *揮発性
準シソーラス用語： マルチプローブ ,  探索 ,  微細加工技術 ,  製造プロセス ,  高感度性

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (3件)：

• International Technology Roadmap for Semiconductors, ITR2013edition
• K.Takami: “Defect inspection of wafers by laser scattering,” Mater.Sci.Eng.B 44(1997)181-7
• 清水裕樹,松野優紀,大場裕太,高偉: “微空間での熱収支を利用した平滑面欠陥検出に関する研究-非接触欠陥検出の原理検討-,” 2016年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集,7-8

タイトルに関連する用語 (8件)： 欠陥 ,  探索 ,  マルチプローブ ,  異物検出 ,  研究 ,  位相 ,  高感度 ,  観察装置