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J-GLOBAL ID:201702232022006605   整理番号:17A1607834

光化学と放射線化学の交差点 紫外線放射に曝露された希薄水溶液中におけるヒドロキシルラジカル生成【Powered by NICT】

At the crossroad of photochemistry and radiation chemistry: formation of hydroxyl radicals in diluted aqueous solutions exposed to ultraviolet radiation
著者 (6件):
資料名:
巻: 19  号: 43  ページ: 29402-29408  発行年: 2017年 
JST資料番号: A0271C  ISSN: 1463-9076  CODEN: PPCPFQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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OHラジカルの生成収率は連続源からの253.7nm放射に曝露されたクマリン-3-カルボン酸および硫酸第一鉄(Fricke線量計)の水溶液中で精密に決定した。OHラジカルの量子収率は 0.08と決定された,すなわち,UV照射溶液で効率的に吸収され,十二光子のうち約1は一個のOHラジカルを生成した。エネルギー的に,水分子は直接H-OH解離(5.0 5.4 eV)のための十分なエネルギーを供給する少なくとも二~4.9eV光子の相関作用を受けるべきである。は二個の水分子の相互作用に基づく機構,長寿命三重項状態を示唆した。励起エネルギーの分子間移動は一つの水分子のOHとHラジカルへの解離のための十分な量のエネルギーを提供した。りん脂質の水溶液中では,これらの照射条件下で生成したヒドロペルオキシドの量子収率は全効果的に吸収されたエネルギー(すなわち用量)とともに減少し,電離放射線への曝露の間に得られた放射化学収率,放射性核種源からのガンマ線のような類似していた。253.7nm照射の下で,一個のOHラジカルは34リン脂質分子の過酸化を引き起こす。これは反応の連鎖機構を示唆した。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (6件):
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ピランの縮合誘導体  ,  塩  ,  電解質水溶液  ,  分子と光子の相互作用  ,  光化学一般  ,  放射線化学一般 
物質索引 (1件):
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