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J-GLOBAL ID:201702232684352122   整理番号:17A0969557

RF PVDマグネトロンスパッタリングにより堆積したMoS_2薄膜に及ぼす湿度と酸素の役割【Powered by NICT】

The role of humidity and oxygen on MoS2 thin films deposited by RF PVD magnetron sputtering
著者 (12件):
資料名:
巻: 319  ページ: 345-352  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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MoS_2は摩擦と摩耗を減少させる滑り対応物に厚膜(1μm以上)として適用した。MoS_2の厚膜は一般に柱状成長し,滑り中のこれらのカラムの曲げまたは破壊は,良好なトライボロジー性能の起源であると考えられる。本研究では,RFマグネトロンスパッタリングにより作製した200nm MoS_2膜のトライボロジー挙動を研究し,摩擦機構に重点を置いた。残留湿度の異なる値でボールオンディスク試験を行い,純酸素雰囲気中で,種々の温度で,滑り中の水と分子状酸素の役割を解明した。は,これらの薄膜の内部構造は層状ではないという事実にもかかわらず,トライボロジー挙動は厚い膜と類似していることを見出した。湿度の非存在下で摩擦は標準条件のそれ以下であると膜の寿命は著しく増大した。75°Cで試料を保持しながら,湿った空気中で類似した性能を観察した。著者らの結果は,吸収水は膜の潤滑特性の劣化を引き起こすことを明らかに示したが,膜の酸化は二次的役割を果たしている。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (3件):
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その他の無機化合物の薄膜  ,  機械的性質  ,  潤滑一般 

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