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J-GLOBAL ID：201702232902483871   整理番号：17A0822447

直接レーザ書き込み技術による所望のプラズモニック構造の実現

Realization of Desired Plasmonic Structures via a Direct Laser Writing Technique

著者 (13件)： TONG Quang Cong (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA) ,  TONG Quang Cong (Inst. Materials Sci., Vietnam Acad. Sci. and Technol., Hanoi, VNM) ,  LUONG Mai Hoang (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA) ,  LUONG Mai Hoang (Univ. Georgia, GA, USA) ,  TRAN Thi Mo (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA) ,  REMMEL Jacqueline (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA) ,  DO Minh Thanh (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA) ,  DO Minh Thanh (Hanoi National Univ. Education, Hanoi, VNM) ,  KIEU Duy Manh (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA) ,  KIEU Duy Manh (Vietnam Air Defence and Air Force Acad., Ha Noi, VNM) ,  GHASEMI Rasta (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA) ,  NGUYEN Duc Tho (Univ. Georgia, GA, USA) ,  LAI Ngoc Diep (Univ. Paris-Saclay, Cachan, FRA)
資料名： Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)
巻： 46  号： 6  ページ： 3695-3701  発行年： 2017年06月 
JST資料番号： D0277B  ISSN： 0361-5235  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズモニック構造の作製に関する最近の研究を提示した。最初に,ポリマーテンプレートを,連続波レーザ源を用いた直接レーザ書き込みに基づく1D,2Dポリマー構造で実現した。レーザーパワー,露光時間の制御により,1D構造では,低励起パワーで150nm,高励起パワーで57nmの寸法を形成した。プラズモン構造は,2つの方法,すなわち,金の蒸着とリフトオフの組み合わせ,および金のスパッタリングと熱アニーリングの組み合わせによって実現した。それぞれの方法には独自の利点があった。高透過帯域通過フィルタ,プラズモニックデータストレージ,プラズモンフォトニックデバイスなど,さまざまな用途に非常に興味深い,数多くの金属製のサブミクロンおよびナノ構造を実現した。

シソーラス用語： *レーザリソグラフィー ,  重合体 ,  型枠 ,  板 ,  金 ,  蒸着 ,  微細加工 ,  *固体素子
準シソーラス用語： テンプレート【型板】 ,  *プラズモン素子 ,  ポリマ ,  リフトオフ ,  *レーザ直接描画

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (1件)： レーザ書き込み