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J-GLOBAL ID：201702233321488144   整理番号：17A1455177

Pd(111)上のV_2O_5の化学量論的膜の堆積と特性評価【Powered by NICT】

Deposition and characterization of stoichiometric films of V₂O₅ on Pd(111)

著者 (4件)： Feng Xu (Department of Chemistry, University of Illinois at Chicago, 845 West Taylor Street, Chicago, IL 60607, United States) ,  Abdel-Rahman Mohammed K. (Department of Chemistry, University of Illinois at Chicago, 845 West Taylor Street, Chicago, IL 60607, United States) ,  Kruppe Christopher M. (Department of Chemistry, University of Illinois at Chicago, 845 West Taylor Street, Chicago, IL 60607, United States) ,  Trenary Michael (Department of Chemistry, University of Illinois at Chicago, 845 West Taylor Street, Chicago, IL 60607, United States)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 664  ページ： 1-7  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非酸化的,UHV環境におけるV_2O_5の微細粉末を加熱することにより物理的気相成長法により300Kの基板温度でPd(111)上のV_2O_5薄膜を成長させるために使用されてきた簡単で効率的な方法。X線光電子分光法(XPS),反射吸収赤外分光法(RAIRS)と低エネルギー電子回折(LEED)を用いて,薄膜の特性評価を行った。成長したままの膜は最小厚さを超えると,V_2O_5の特徴はXPSとRAIRS,化学量論V_2O_5の存在を確認し,明らかにした。LEEDは300Kで成長したままの膜の長距離秩序を示さなかった。600と700Kの間の温度へのアニーリングは,XPSにより同定されたV_2O_5VO_2への還元とLEEDにより決定した秩序構造の形成を引き起こし,VO_2は800Kへのアニーリング後に支配的である。さらに1000Kへのアニーリング後,V_2O_3の秩序型のみがPd(111)に存在する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 酸化 ,  薄膜 ,  長範囲規則度 ,  微粉体 ,  X線光電子スペクトル ,  X線光電子分光法 ,  *化学量論 ,  焼なまし ,  物理蒸着 ,  赤外分光法 ,  *キャラクタリゼーション ,  基板温度 ,  低速電子回折
準シソーラス用語： 秩序構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 五酸化バナジウム ,  X線光電子分光法 ,  反射吸収赤外分光法 ,  低エネルギー電子回折

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (3件)： Pd ,  堆積 ,  特性評価