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J-GLOBAL ID：201702233428750943   整理番号：17A1093582

堆積したままの非化学量論的NiO薄膜のDC反応性マグネトロンスパッタリングの酸素比制御の影響【Powered by NICT】

The effect of the oxygen ratio control of DC reactive magnetron sputtering on as-deposited non stoichiometric NiO thin films

著者 (5件)： Wang Mengying (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing, 100191, China) ,  Thimont Yohann (CIRIMAT, Universite de Toulouse, CNRS, INPT, UPS, Universite Toulouse 3 Paul Sabatier, 118 route de Narbonne 31062, Toulouse Cedex 9, France) ,  Presmanes Lionel (CIRIMAT, Universite de Toulouse, CNRS, INPT, UPS, Universite Toulouse 3 Paul Sabatier, 118 route de Narbonne 31062, Toulouse Cedex 9, France) ,  Diao Xungang (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing, 100191, China) ,  Barnabe Antoine (CIRIMAT, Universite de Toulouse, CNRS, INPT, UPS, Universite Toulouse 3 Paul Sabatier, 118 route de Narbonne 31062, Toulouse Cedex 9, France)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 419  ページ： 795-801  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非化学量論Ni_1xO薄膜は広い範囲の酸素分圧(0≦p_O2≦1Pa)の中で直流反応性マグネトロンスパッタリングによりガラス基板上に作製した。蒸着膜構造と酸素化学量論に対する特性の依存性をX線回折,X線反射率,X線光電子分光法,Raman分光法,原子間力顕微鏡,UV-vis測定と電気輸送特性測定により系統的に分析した。蒸着速度,表面形態および光電気特性をX線回折,X線反射率およびXPS分光法によって決定した金属ニッケルクラスタ相の存在によるものでは0.05Paよりも低い酸素分圧に非常に敏感である。ナノ結晶NiO相の存在はp_O2=0Paでも強調した。p_O2>0.05Paでは,NiO相が検出された。Ni~3+種の進行性出現は,格子パラメータの増加及び(111)すれすれ入射X線回折により決定した優先配向,X線反射臨界角の微細増加,低エネルギー側へNi2p_3/2信号の変位,電気伝導率の顕著な増加と全透過率の減少によって特徴付けられた。XPS法によるNi~3+の定量化を検討した。もRaman分光法の使用はNi_1xO薄膜中のNi~3+の存在を実証するために関連することを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *酸素 ,  蒸着膜 ,  *非化学量論 ,  ナノ結晶 ,  X線光電子分光法 ,  X線反射 ,  透過率 ,  Raman分光法 ,  X線回折 ,  *反応性
準シソーラス用語： すれすれ入射X線回折 ,  表面形態 ,  X線反射率 ,  酸素分圧 ,  *反応性マグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 酸化ニッケル薄膜 ,  エレクトロクロミック素子 ,  非化学量論Ni_1xO ,  反応性DCマグネトロンスパッタリング

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 堆積 ,  薄膜 ,  DC ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  酸素