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J-GLOBAL ID：201702233447917255   整理番号：17A1057949

マイクロ構造化材料のフルエンス依存スパッタリング収率【Powered by NICT】

Fluence-dependent sputtering yield of micro-architectured materials

著者 (7件)： Matthes Christopher S.R. (Mechanical & Aerospace Engineering Department, University of California, Los Angeles, 420 Westwood Plaza, Los Angeles, CA 90095, United States) ,  Ghoniem Nasr M. (Mechanical & Aerospace Engineering Department, University of California, Los Angeles, 420 Westwood Plaza, Los Angeles, CA 90095, United States) ,  Li Gary Z. (Mechanical & Aerospace Engineering Department, University of California, Los Angeles, 420 Westwood Plaza, Los Angeles, CA 90095, United States) ,  Matlock Taylor S. (Mechanical & Aerospace Engineering Department, University of California, Los Angeles, 420 Westwood Plaza, Los Angeles, CA 90095, United States) ,  Goebel Dan M. (Mechanical & Aerospace Engineering Department, University of California, Los Angeles, 420 Westwood Plaza, Los Angeles, CA 90095, United States) ,  Dodson Chris A. (Mechanical & Aerospace Engineering Department, University of California, Los Angeles, 420 Westwood Plaza, Los Angeles, CA 90095, United States) ,  Wirz Richard E. (Mechanical & Aerospace Engineering Department, University of California, Los Angeles, 420 Westwood Plaza, Los Angeles, CA 90095, United States)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 407  ページ： 223-235  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低エネルギープラズマイオンフルエンスの関数としてMoとその瞬間スパッタリング速度の表面形態の間の関係の実験的検討を提示した。内蔵アーキテクチャをもつ表面のナノ/ミクロ特徴の動的進化,およびスパッタリング収率における対応する変化を定量化した。幾何学的再捕捉の結果としてスパッタされた原子のバリスティック堆積が観察され,表面層の再成長を確認した。これはプラズマ曝露中のミクロ構造化表面の自己修復機構を提供する。種々の材料特性化法は,スパッタリング収率は基本的性質ではなく,初期表面構造とその後の進化に定量的に関連していることを示すために使用した。300eV Arプラズマに曝露した集合組織化モリブデン試料のスパッタリング収率は平坦試料の対応する値のほぼ1/2であると,イオンフルエンスと共に増加した。Mo試料は最初に0.22±5%の低いスパッタリング収率を示し,高フルエンスで0.4±5%に収束する。スパッタリング収率は統合イオンフルエンスの関数としての過渡挙動を示し,初期表面条件に依存しない定常状態値に達した。観察された過渡的スパッタリング現象を説明するために,飽和フルエンスは初期表面粗さにより決定されることを示すために提案した現象論的モデル。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 集合組織 ,  表層 ,  モリブデン ,  相互作用 ,  表面構造 ,  *フルエンス ,  プラズマ曝露 ,  *スパッタリング ,  プラズマ ,  捕獲
準シソーラス用語： 定常状態 ,  イオンフルエンス ,  表面形態 ,  *スパッタリング収率 ,  *ミクロ構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： スパッタリング ,  アルゴンプラズマ ,  マイクロアーキテクチャ ,  自己修復 ,  イオン-表面相互作用 ,  表面粗さ

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (3件)： マイクロ構造 ,  フルエンス ,  スパッタリング収率