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J-GLOBAL ID:201702234509788035   整理番号:17A1457568

マルチマグネトロンスパッタリング装置により蒸着したHfO_2~-TiO_2薄膜複合材料の諸性質の研究【Powered by NICT】

Investigation of various properties of HfO2-TiO2 thin film composites deposited by multi-magnetron sputtering system
著者 (6件):
資料名:
巻: 421  号: PA  ページ: 170-178  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では種々の量のチタン添加の,マグネトロンスパッタリングにより蒸着した二酸化ハフニウム(HfO_2),二酸化チタン(TiO_2)および混合HfO_2~-TiO_2薄膜の性質について述べた。堆積したコーティングの構造,表面,光学的および機械的性質を分析した。X線回折とRaman散乱measuremetsを基にして,それらの微細構造に及ぼす混合TiO_2~-HfO_2薄膜中のチタン濃度の有意な影響が見られたことが観察された。調製した混合酸化物皮膜中のTi含有量の増加は平均結晶子サイズの減少と被覆の非晶質化を引き起こし,例えば。堆積したハフニアとチタニア薄膜をHfO_2とTiO_2薄膜の単斜晶相と混合アナターゼ-ルチル相のナノ結晶構造を示した。原子間力顕微鏡法研究は,堆積した薄膜の表面は密に充填したクラックのないと可視粒子から成ることを示した。表面粗さと水接触角の値は混合酸化物中のTi含有量の増加とともに減少した。光学研究の結果は,すべての堆積した薄膜は可視光領域で透明であることを示した。遮断波長,屈折率と充填密度に及ぼす材料組成の変化の影響も調べた。機械的性質の行われた測定により,薄膜の硬度とYoung率は材料組成に依存することを明らかにした。薄膜の硬度は薄膜中のTi含有量の増加とともに増加し,4.90GPaから13.7GPaにHfO_2とTiO_2であった。引かき抵抗の結果は,適切な材料組成の薄膜は光学デバイスの保護膜として使用できることを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 

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