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J-GLOBAL ID：201702234535245143   整理番号：17A0469715

IrO_2薄膜の微細構造解析【Powered by NICT】

Microstructure analysis of IrO₂ thin films

著者 (5件)： Hou Xiuyi (Institute for Solid State Physics, University of Tokyo, Chiba 277-8581, Japan) ,  Takahashi Ryota (Institute for Solid State Physics, University of Tokyo, Chiba 277-8581, Japan) ,  Takahashi Ryota (JST, PRESTO, Saitama 332-0012, Japan) ,  Yamamoto Takahisa (Graduate School of Engineering, Nagoya University, Aichi 464-8603, Japan) ,  Lippmaa Mikk (Institute for Solid State Physics, University of Tokyo, Chiba 277-8581, Japan)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 462  ページ： 24-28  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イリジウム酸塩のためのパルスレーザ蒸着成長窓を決定するTiO_2(110)基板上にIrO_2薄膜を成長させた。緩和IrO_2膜は500°Cの成長温度と100mTorrの酸素バックグラウンド圧力で得られた。そうでなければ,純Ir金属膜または蒸発Ir損失のいずれかが観察された。X線Φ走査測定は,膜がエピタキシャルであることを示したが,明瞭な結晶粒構造を原子間力顕微鏡と透過型電子顕微鏡で見られた。粒界が低温での膜の伝導率を制限することが分かった。歪緩和は粒界での積層欠陥をもたらすように見えた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： パルスレーザ蒸着 ,  透過型電子顕微鏡 ,  金属薄膜 ,  *薄膜 ,  緩和現象 ,  結晶粒界 ,  蒸発 ,  積層欠陥 ,  結晶粒 ,  低温 ,  イリジウム ,  原子間力顕微鏡 ,  酸素 ,  成長温度 ,  格子欠陥
準シソーラス用語： 歪緩和 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： レーザエピタクシー ,  欠陥 ,  Oxides ,  X線回折

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  微細構造 ,  解析