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J-GLOBAL ID：201702234629676894   整理番号：17A1057054

中性pHでのAlドープメソ多孔性シリカ(MCM 41)上に担持されたrGOαFeOOHによるフェノールの可視光光Fenton酸化:触媒の性能と最適化【Powered by NICT】

Visible-light photo-Fenton oxidation of phenol with rGO-α-FeOOH supported on Al-doped mesoporous silica (MCM-41) at neutral pH: Performance and optimization of the catalyst

著者 (5件)： Wang Ying (The Key Laboratory of Water and Sediment Sciences, Ministry of Education, School of Environment, Beijing Normal University, Beijing 100875, PR China) ,  Liang Mingxing (The Key Laboratory of Water and Sediment Sciences, Ministry of Education, School of Environment, Beijing Normal University, Beijing 100875, PR China) ,  Fang Jiasheng (College of Chemical Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing 100029, PR China) ,  Fu Jun (Sino-Japan Friendship Centre for Environmental Protection, Beijing 100029, PR China) ,  Chen Xiaochun (College of Chemical Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing 100029, PR China)
資料名： Chemosphere  (Chemosphere)
巻： 182  ページ： 468-476  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0843A  ISSN： 0045-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,AlドープM CM-41触媒(RFAM)上に担持された還元グラフェン酸化物(rGO α FeOOH)上のα-FeOOHは,中性pHでのフェノールの可視光光-Fenton酸化のために最適化した。触媒の安定性,気泡エアレーションの効果,及び分解中間体を調べた。結果は大きなBrunauer-Emmett-Teller(BET)表面積とメソポーラス構造をもつRFAMは可視光駆動(VLD)光-Fentonプロセスのための優れた触媒活性を示したことを示した。フェノール分解は擬一次反応速度モデルで良く記述された。Raman分析は,rGOαFeOOH(RF)複合材料を,第一鉄イオン誘導自己集合過程中に形成されることを示した。Al MCM 41は均一にRFナノシートを分散させ,物質の移動度と拡散を促進することができた。主触媒α-FeOOHの活性はrGOナノシートの取込み後に改良された。RFAMにおけるα-FeOOH結晶はFe_3O_4とFe_2O_3のそれより優れた触媒活性を示した。2.33の最適GO Fe~2+質量比,RFAM触媒はより大きなBET面積,細孔径,および細孔容積を示し,めざましい安定性を有するVLD光-Fenton反応において高い性能とエネルギー利用効率を示した。バブリングN_2は触媒性能を阻害したが,バブリングO_2または空気はわずかにフェノール分解を促進した。可視光高効率フェノール分解のための反応性酸素種(OH)の生成を加速する重要な役割を果たした。分解中間体の分析は,高いフェノール無機化レベルと低分子量有機酸の形成を示した。本研究では,新しいタイプの触媒集合と中性pHで効果的な廃水浄化のための可視光光-Fentonプロセスに適用できる有望な不均一系触媒への可能な経路への洞察を提供する上で助けとなるであろう。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *酸化 ,  pH依存性 ,  表面積 ,  *最適化 ,  *ドーピング ,  複合材料 ,  *可視光 ,  ナノシート ,  触媒活性 ,  廃水処理 ,  *二酸化ケイ素 ,  細孔径 ,  *触媒 ,  無機化 ,  フェノール類
準シソーラス用語： 光-Fenton , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Optimization ,  還元された酸化グラフェン ,  可視光 ,  光-Fenton酸化

分類 (2件)： その他の汚染原因物質  (SB05040W) ,  下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

物質索引 (1件)： フェノール

タイトルに関連する用語 (13件)： 中性 ,  pH ,  Al ,  多孔性シリカ ,  MCM ,  担持 ,  RGO ,  フェノール ,  可視光 ,  光Fenton ,  酸化 ,  触媒 ,  最適化