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J-GLOBAL ID:201702234908734926   整理番号:17A1021906

各種O_2Ar比のパルスDCマグネトロンスパッタリングにより蒸着した機能的二酸化チタン薄膜の特性の解析【Powered by NICT】

Analysis of the properties of functional titanium dioxide thin films deposited by pulsed DC magnetron sputtering with various O2:Ar ratios
著者 (1件):
資料名:
巻: 69  ページ: 96-104  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0468A  ISSN: 0925-3467  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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薄膜作製の目的のために,パルスDCマグネトロンスパッタリングプロセスを実施し,種々のO_2Arガス比は堆積の間に適用された。種々のスパッタリング雰囲気で堆積した薄膜の構造特性を,X線回折法とRaman分光法の結果,全ての被覆はナノ結晶質であり,アナターゼまたはルチル構造を持っていたことを明らかにしたに基づいて決定した。皮膜の表面形態を走査電子顕微鏡と原子間力顕微鏡を用いて調べた。表面特性をX線光電子分光法および濡れ性測定により評価した。スパッタリングガス雰囲気中のAr量の増加は結果として生じる薄膜水接触角の増加と水分子とヒドロキシルラジカルを吸着する表面の増強能が向上することが明らかになった。透過および反射測定に基づいて評価し光学的性質を全てのコーティングは,可視波長領域で透明であったが,異なる屈折率,空隙率及び充填密度を持つことを示した。得られた被覆の機械的性質をナノインデンテーション試験に基づいて決定した。調製したTiO_2薄膜を,種々の表面を有し,堆積時のガス雰囲気に依存する光学的性質と機械的性質。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
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