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J-GLOBAL ID：201702235688564205   整理番号：17A0067701

短波長X線回折法によりナノの内部残留応力を測定した。【JST・京大機械翻訳】

Interior Residual Stress of Bulk Nanocrystalline Aluminum Measured by Short-Wavelength X-ray Diffraction Method

著者 (8件)： Dou Shitao (Southwest Institute of Technology and Engineering) ,  Zheng Lin (Southwest Institute of Technology and Engineering) ,  Zhang Zhaohui (School of Materials,Beijing Institute of Technology) ,  Zhang Jin (Institute for Advanced Material and Technology,University of Science and Technology Beijing) ,  Ji Pengfei (Institute for Advanced Material and Technology,University of Science and Technology Beijing) ,  He Changguang (Southwest Institute of Technology and Engineering) ,  Peng Zhengkun (Southwest Institute of Technology and Engineering) ,  Xiao Yong (Southwest Institute of Technology and Engineering)
資料名： Jixie Gongcheng Cailiao  (Jixie Gongcheng Cailiao)
巻： 40  号： 9  ページ： 97-100  発行年： 2016年 
JST資料番号： C2051A  ISSN： 1000-3738  CODEN： JGCAEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 自己開発したSWXRD-1000短波長X線回折を用いて、脱応力熱処理前後のナノの内部残留応力を測定した。試料の厚さ方向に沿った残留応力の分布を研究するために,XSTRESS-3000型X線応力場によって処理されたナノの表面残留応力を試験した。結果は以下を示す。ナノ結晶粒の内部の結晶粒は均一に分布していた。熱処理温度の上昇とともに,ブロック中心の残留応力は減少し,中心の半径方向残留応力は未処理の113MPAから4MPAに減少し,残留応力は未熱処理の91MPAから38MPAに低下した。試料の厚さ方向における残留応力分布は全体として外部圧力の分布を示し,直径方向における内部残留応力は中間の高さの両側の低い分布を示し,中心の近くは残留引張応力であった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 結晶粒 ,  引張応力 ,  *X線 ,  *残留応力 ,  応力場 ,  半径方向 ,  *X線回折 ,  ナノ結晶 ,  *X線回折分析 ,  外圧 ,  熱処理 ,  熱処理温度

著者キーワード (4件)： bulk nanocrystalline aluminum ,  short-wavelength X-ray diffraction ,  non-destructive measurement ,  interior residual stress

分類 (1件)： 金属材料  (HC02020X)

タイトルに関連する用語 (3件)： 短波 ,  X線回折法 ,  残留応力