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J-GLOBAL ID:201702235704063349   整理番号:17A1547639

電気分離-プロセスのモデル化細胞対抵抗とスペーサ影因子【Powered by NICT】

Modeling cell pair resistance and spacer shadow factors in electro-separation processes
著者 (10件):
資料名:
巻: 543  ページ: 151-162  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0669A  ISSN: 0376-7388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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スタックの電気抵抗は,逆電気透析(RED~1)と他の電気分離プロセスの性能に影響する最も重要なパラメータの一つである。スタックは多くの細胞対,流体は膜表面を横切って流れ,機械的支持を提供し,膜間距離を維持することを可能にするスペーサーを充填したチャネルによって分けられた交番する陰イオンと陽イオン交換膜から成る各セル対から構成されている。スペーサ充填チャネル中の非導電性メッシュの存在は細胞対の電気抵抗を増加させるこのいわゆる影効果はメッシュのシャドウファクタ(β)により特徴づけることができる。影因子はこれまで実験的に決定されていない。さらに,流路と膜上の影効果の程度ははるかに詳細に研究されておらず,文献で提案された解析モデルを仮定のみに基づいている。本論文では,非接触抵抗(NCR~2)法を用いて,高い(1m)と低(0.1M)塩分NaCl溶液におけるメッシュ充填スペーサチャネル,膜およびサンドイッチ単位セルの抵抗を分離して測定した。四つの異なるスペーサメッシュ試料の影因子を実験的に決定した。細胞対抵抗モデル化の既存の方法を評価し,シリーズ(RIS~3)モデルにおける抵抗に最も適した関数形を決定した。メッシュ影因子は溶液濃度に依存しないことが分かったが,膜抵抗は溶液濃度の増加とともに減少することが分かった。メッシュの影の要因は,膜の活性領域にほとんど影響を与えないことが分かった。NCR法はREDプロセスのための適切な低抵抗スペーサメッシュと膜の選択の過程を促進することができた。検証されたRISモデルは工業規模プラントの電気分離プロセスを設計するための技術-経済モデルに用いることができる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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膜分離 

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