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J-GLOBAL ID：201702235738820010   整理番号：17A1501769

新規HiPIMS法による蒸着したタングステン薄膜の増強された特性【Powered by NICT】

Enhanced properties of tungsten thin films deposited with a novel HiPIMS approach

著者 (8件)： Velicu Ioana-Laura (Faculty of Physics, Alexandru Ioan Cuza University, Iasi 700506, Romania) ,  Tiron Vasile (Faculty of Physics, Alexandru Ioan Cuza University, Iasi 700506, Romania) ,  Porosnicu Corneliu (National Institute for Laser, Radiation and Plasma Physics, Magurele 077125, Romania) ,  Burducea Ion (Horia Hulubei National Institute of Physics and Nuclear Engineering, Magurele 077125, Romania) ,  Lupu Nicoleta (National Institute of Research and Development for Technical Physics, Iasi 700050, Romania) ,  Stoian George (National Institute of Research and Development for Technical Physics, Iasi 700050, Romania) ,  Popa Gheorghe (Faculty of Physics, Alexandru Ioan Cuza University, Iasi 700506, Romania) ,  Munteanu Daniel (Department of Materials Science and Engineering, Transilvania University, Brasov 500036, Romania)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 424  号： P3  ページ： 397-406  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： タングステン(W)の工業的利用のための大きな可能性にもかかわらず,物理蒸着法により得られたW薄膜の性質を制御し,調整,それ以下,高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)により蒸着されたものでこれまで報告された研究は非常に少ない。本研究では,蒸着プロセスの結果と通常の直流マグネトロンスパッタリング(dcMS)とH iPIMS技法によるシリコンとモリブデン基板(100W平均スパッタリング出力)上に堆積したナノ結晶W薄膜の特性評価を提示した。堆積した薄膜のトポロジー的,構造的,機械的及びトライボロジー特性を調べた。HiPIMS中においては,析出プロセスと被覆性質の両方は,適切な磁場配位とパルス設計を用いて最適化できることが分かった。他の堆積した試料と比較して,追加的磁場に支援された多重パルス(5×3μs)HiPIMSで成長させたW膜,マグネトロン陰極の前面に置かれた環状型永久磁石によって作られたは有意に強化された特性などを示した:滑らかな表面,高い均一性と緻密な微細構造,高い硬度とYoung率,けい素基板に対して良好な接着と低い摩擦係数。機械的挙動と構造変化をプラズマ診断の結果に基づいて議論した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  Young率 ,  磁場 ,  キャラクタリゼーション ,  物理蒸着 ,  ケイ素 ,  微細構造 ,  パルス ,  *タングステン ,  摩擦係数 ,  マグネトロン ,  マグネトロンスパッタリング ,  最適化 ,  ナノ結晶
準シソーラス用語： *HiPIMS , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Hardness ,  マグネトロンスパッタリング ,  ナノインデンテーション ,  薄膜 ,  タングステン ,  Young率

分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： HiPIMS ,  蒸着 ,  タングステン ,  薄膜 ,  増強