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J-GLOBAL ID:201702235931562568   整理番号:17A1002983

ノーマリーオフ動作のための強誘電体HfO2を集積した不揮発性SRAM

著者 (3件):
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巻: 117  号: 166(SDM2017 31-49)  ページ: 45-48  発行年: 2017年07月24日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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1μW級の低消費電力性能が求められるIoTデバイスにおいては,待機時にはほぼすべてのモジュールの電源を切り待機時のリーク電力を削減する必要がある。そのためには電源を切る前の状態を保持し電源投入後すぐに前の状態に復帰できるノーマリーオフコンピューティング技術が重要となる。本研究では,高速でかつ低電圧・低消費電力動作が期待される不揮発性SRAMに注目し,CMOSと整合性の高い強誘電体HfO2キャパシタを集積した不揮発性SRAMを試作・実証した。9nmという極めて薄い強誘電体HfO2薄膜での集積化技術によって,従来の強誘電体で問題となっていた不揮発性SRAMの微細化の問題を解決できる可能性が示唆された。(著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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半導体集積回路  ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性 
引用文献 (8件):

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