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J-GLOBAL ID:201702236167980204   整理番号:17A1456422

触媒活性白金被覆原子間力顕微鏡プローブを用いた水中でのシリコンの局所エッチング【Powered by NICT】

Localized etching of silicon in water using a catalytically active platinum-coated atomic force microscopy probe
著者 (5件):
資料名:
巻: 50  ページ: 344-353  発行年: 2017年 
JST資料番号: A0734B  ISSN: 0141-6359  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Pt被覆A FMプローブを用いた高度に局在化した触媒エッチングに基づいた水中でのSiのための新しい原子間力顕微鏡(A FM)に基づくナノ作製技術を紹介した。ナノスケールの溝は化学物質の添加なしで水中でPt支援触媒化学エッチングにより室温でSi表面上に作製できることを示した。さらに,水中の溶存酸素(O_2)は,Si除去プロセスにおける水によるSiの化学反応を駆動するための重要な要素であることが分かった。実験結果は,酸素物質移動限界を克服し,Si除去速度を向上させるために水の撹はんのためのPt被覆A FMプローブの振動するカンチレバーが必須であることを示唆している。Siのエッチング中に生じる基本的な化学反応は電気化学的理論に基づいて推定した。が第一段階で,溶存酸素は減少し,Pt被覆チップの表面上の水分子(H_2O)と水酸化物イオン(OH~ )を形成することを提案した。第二段階では,Si原子はOH~ イオンとの反応で酸化されると水溶性けい酸塩が形成された。Pt被覆チップの表面で起こる触媒反応は付加的Ptワイヤ電極にアノード電位の適用により増強され,Si除去速度の劇的な五十倍の増加をもたらした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  ,  固体デバイス製造技術一般 

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