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J-GLOBAL ID：201702236282382400   整理番号：17A1370570

As-Teカルコゲナイド薄膜の特性にプラズマ支援化学気相蒸着パラメータが及ぼす影響

Influence of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Parameters on Characteristics of As-Te Chalcogenide Films

著者 (10件)： MOCHALOV Leonid (Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS) ,  MOCHALOV Leonid (Nizhny Novgorod State Technical Univ. n.a. R.E. Alekseev, Nizhny Novgorod, RUS) ,  NEZHDANOV Aleksey (Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS) ,  KUDRYASHOV Mikhail (Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS) ,  LOGUNOV Alexandr (Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS) ,  STRIKOVSKIY Askold (Inst. for Applied Physics, Russian Acad. of Sci., Nizhny Novgorod, RUS) ,  GUSHCHIN Mikhail (Inst. for Applied Physics, Russian Acad. of Sci., Nizhny Novgorod, RUS) ,  CHIDICHIMO Giuseppe (Univ. Calabria, Rende (CS), ITA) ,  DE FILPO Giovanni (Univ. Calabria, Rende (CS), ITA) ,  MASHIN Aleksandr (Lobachevsky State Univ. Nizhny Novgorod, Nizhny Novgorod, RUS)
資料名： Plasma Chemistry and Plasma Processing  (Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 37  号： 5  ページ： 1417-1429  発行年： 2017年09月 
JST資料番号： H0836A  ISSN： 0272-4324  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 種々の化学組成と相を有するAs-Teカルコゲナイド薄膜を,プラズマ支援化学気相蒸着により初めて製作した。0.1Torrの低圧低温非平衡RF(40MHz)プラズマ中にヒ素とテルルの蒸気を入射し,直接相互作用させて薄膜を成長させた。プラズマパラメータの径方向分布はLangmuir探針で測定した。材料ガス組成を変化させ,薄膜の相(AsTeとAs₂Te₃)と構造の変化を調べた。

シソーラス用語： カルコゲン化物 ,  *プラズマCVD ,  半導体薄膜 ,  Langmuir探針 ,  *テルル化ヒ素 ,  Ramanスペクトル ,  電子顕微鏡観察 ,  X線回折
準シソーラス用語： *プラズマ支援化学気相蒸着 ,  走査電子顕微鏡法

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (5件)： Te ,  カルコゲナイド ,  薄膜 ,  プラズマ支援化学気相蒸着 ,  パラメータ