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J-GLOBAL ID：201702236443123992   整理番号：17A1097936

ヘテロ原子は金属を含まない触媒によるスルファメトキサゾールの触媒オゾン処理のためのドープしたグラフェン:性能と機構【Powered by NICT】

Heteroatoms doped graphene for catalytic ozonation of sulfamethoxazole by metal-free catalysis: Performances and mechanisms

著者 (8件)： Yin Renli (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin, China) ,  Guo Wanqian (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin, China) ,  Du Juanshan (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin, China) ,  Zhou Xianjiao (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin, China) ,  Zheng Heshan (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin, China) ,  Wu Qinglian (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin, China) ,  Chang Joshu (Department of Chemical Engineering, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan) ,  Ren Nanqi (State Key Laboratory of Urban Water Resource and Environment, Harbin Institute of Technology, Harbin, China)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 317  ページ： 632-639  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,還元グラフェン酸化物(rGO)とヘテロ原子(NとP)をドープしたグラフェン酸化物(NGO, PGO)を合成し,最初にスルファメトキサゾール(SMX)の触媒オゾン処理に適用した。金属を含まない材料として,NGOとPGOは,SMXの触媒オゾン処理であり,その効率はドープ無しrGOに2.5倍以上の両方がオゾン処理システムと1.5倍の有意な能力を示すことが分かった。材料特性はヘテロ原子酸化グラフェン層へのドーピングが触媒性能を向上させるために,新しい活性サイトを生成グラフェン酸化物の構成と特性を調節することを示した。密度汎関数理論(DFT)計算は,分解機構の詳細なプローブを採用した。理論計算は実験結果とよく対応し,S原子が最も感受性の攻撃サイトであり,触媒オゾン処理プロセス中のSMXのSNとSC結合の開裂をもたらしたことを示した。NGOとPGO材料によるSMXの触媒オゾン処理への新しい洞察を提案した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 活性部位 ,  *オゾン処理 ,  密度汎関数法 ,  *ドーピング ,  感受性 ,  *触媒 ,  *グラフェン ,  *オゾン ,  触媒活性 ,  プローブ ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホンアミド ,  酸素複素環化合物 ,  第一アミン
準シソーラス用語： 理論計算 ,  分解機構 ,  酸化グラフェン ,  *ヘテロ原子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： NGO ,  PGO ,  SMX ,  オゾン ,  DFT ,  無金属触媒作用

分類 (1件)： 下水,廃水の化学的処理  (SC03050W)

物質索引 (1件)： スルファメトキサゾール

タイトルに関連する用語 (6件)： ヘテロ原子 ,  触媒 ,  スルファメトキサゾール ,  オゾン処理 ,  ドープ ,  グラフェン