Schmidt S. について
Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden について
Haenninen T. について
Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden について
Wissting J. について
Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden について
Hultman L. について
Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden について
Goebbels N. について
IHI Ionbond AG, Industriestrasse 211, CH-4600 Olten, Switzerland について
Santana A. について
IHI Ionbond AG, Industriestrasse 211, CH-4600 Olten, Switzerland について
Tobler M. について
IHI Ionbond AG, Industriestrasse 211, CH-4600 Olten, Switzerland について
Hogberg H. について
Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden について
Journal of Applied Physics について
窒化ケイ素 について
被覆 について
マグネトロンスパッタリング について
残留応力 について
プロセスパラメータ について
密着性 について
特性 について
比率 について
質量分析 について
X線回折 について
X線光電子分光法 について
走査電子顕微鏡 について
ナノインデンテーション について
硬度 について
コバルト合金 について
密度 について
HiPIMS について
コーティング について
プラズマ特性 について
高密度 について
反応性マグネトロンスパッタリング について
流量比 について
その他の無機化合物の薄膜 について
スパッタリング について
固体の機械的性質一般 について
反応性 について
高出力 について
インパルス について
マグネトロンスパッタリング について
堆積 について
コーティング について
残留 について
応力 について
プロセスパラメータ について