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J-GLOBAL ID：201702238846410729   整理番号：17A0783228

化学浴析出法による(111)優先配向Cu₂O膜の作製と膜厚制御

著者 (3件)： 鳥名木大地 (慶応大) ,  萩原学 (慶応大) ,  藤原忍 (慶応大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.2F29  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 析出 ,  銅錯体 ,  優先配向 ,  *酸化銅 ,  *薄膜 ,  膜厚 ,  微細構造 ,  構成 ,  *酸化物薄膜 ,  薄膜形成 ,  ラクトン ,  アルコラート ,  第二アルコール ,  ポリオール ,  脂肪族アルコール ,  脂肪族カルボン酸 ,  カルボン酸塩 ,  ヒドロキシ酸 ,  ポリカルボン酸
準シソーラス用語： 化学浴析出法 ,  成膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (2件)： L-アスコルビン酸ナトリウム ,  くえん酸三ナトリウム

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学浴析出法 ,  優先配向 ,  Cu2O ,  作製 ,  膜厚制御