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J-GLOBAL ID：201702239086762592   整理番号：17A0855262

CO接触酸化の高性能のためのNiをドープしたCeO_2ミクロスフェアへの発根NiOナノシート【Powered by NICT】

NiO nanosheets rooting into Ni-doped CeO₂ microspheres for high performance of CO catalytic oxidation

著者 (4件)： Wang Debao (Key Lab of Inorganic Synthetic and Applied Chemistry, State Key Lab Base of Eco-chemical Engineering, Qingdao University of Science & Technology, Qingdao 266042, China) ,  Yu Haitao (Key Lab of Inorganic Synthetic and Applied Chemistry, State Key Lab Base of Eco-chemical Engineering, Qingdao University of Science & Technology, Qingdao 266042, China) ,  Zhu Yibiao (College of Materials Science and Engineering, Qingdao University of Science & Technology, Qingdao 266042, China) ,  Song Caixia (College of Materials Science and Engineering, Qingdao University of Science & Technology, Qingdao 266042, China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 198  ページ： 168-171  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NiドープCeO_2@NiOヘテロ構造を設計し,容易にNi CeO_2多孔質ミクロスフェアへの発根NiOナノシートを調製した。NiSO_4はNiドープCeO_2多孔性ミクロスフェアの自己集合に重要であることが分かった。CeO_2ミクロスフェアへの発根NiOナノシートの成長モードは容易なO_2とCO移動度に対するCeO_2とNiOの間の密接な接触だけでなくNiドープCeO_2@NiOミクロスフェアの高い構造安定性を確実にした。得られたNiドープCeO_2@NiOヘテロ構造は触媒CO酸化用の強化された性能を示した。サイクル試験は,それらの良好な再現性と安定性を示した。その増進はNi CeO_2とNiO間の相乗効果だけでなくNiOナノシートとNi CeO_2に露出した活性部位に起因すると考えられる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ミクロスフェア ,  繰返し試験 ,  多孔性 ,  *接触酸化 ,  *発根 ,  再現性 ,  自己集合 ,  *ニッケル ,  触媒 ,  *ナノシート ,  相乗作用 ,  *ドーピング ,  活性部位
準シソーラス用語： 構造安定性 ,  ヘテロ構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Nanocomposites ,  Microstructure ,  Ni CeO_2/NiO ,  Heterostructures ,  CO酸化

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (8件)： CO ,  接触酸化 ,  高性能 ,  Ni ,  ドープ ,  ミクロスフェア ,  発根 ,  NiOナノシート