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J-GLOBAL ID:201702239223107039   整理番号:17A1427825

プラズマ処理はトウガラシ種子のぬれと浮遊領域を切り替える【Powered by NICT】

Plasma treatment switches the regime of wetting and floating of pepper seeds
著者 (7件):
資料名:
巻: 157  ページ: 417-423  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0541A  ISSN: 0927-7765  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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低温高周波プラズマ処理改質ぬれと浮遊領域コショウ種子の。プラズマ処理した種子の濡れ状態はWenzelのような部分的な濡れ完全なぬれに変更した。プラズマ処理後の疎水性回復を記録した。未処理及びプラズマ処理した種子で観察された(三相)三重線の微細構造の環境走査型電子顕微鏡を報告した。プラズマ処理は,水/空気界面上に置かれたコショウ種子の急速な沈下を促進した。プラズマ処理はコショウ種子の表面トポグラフィーに影響を及ぼさなかったが,電気的に荷電した。浮遊プラズマ処理した種子の静電反発力が観察された。表面電荷密度は帯電した種子の浮遊から抽出したデータから推定し,σ≒1 2μC/m~2静電振り子による非依存性であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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発生,成長,分化  ,  固-液界面 
タイトルに関連する用語 (5件):
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