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J-GLOBAL ID：201702239346117439   整理番号：17A0943183

パターン形成溶液へのDSAの統合のためのEDAツールの概観と開発【Powered by NICT】

Overview and development of EDA tools for integration of DSA into patterning solutions

著者 (9件)： Torres J. Andres (Mentor Graphics Corporation, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, OR 97070, United States of America) ,  Fenger Germain (Mentor Graphics Corporation, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, OR 97070, United States of America) ,  Khaira Daman (Mentor Graphics Corporation, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, OR 97070, United States of America) ,  Yuansheng Ma (Mentor Graphics Corporation, 46885 Bayside Parkway, Fremont, CA 94538, United States of America) ,  Granik Yuri (Mentor Graphics Corporation, 46885 Bayside Parkway, Fremont, CA 94538, United States of America) ,  Kapral Chris (Mentor Graphics Corporation, 5000 Plaza On The Lake Suite 310, Austin, TX 78759, United States of America) ,  Mitra Joydeep (Mentor Graphics Corporation, 5000 Plaza On The Lake Suite 310, Austin, TX 78759, United States of America) ,  Krasnova Polina (Mentor Graphics Corporation, Business Center Concord, 10 Shabolovka St., Moscow, Russia 119049) ,  Ait-Ferhat Dehia (Mentor Graphics Corporation, 110 Rue Blaise Pascal, 38330 Montbonnot-Saint-Martin, France)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： ISQED  ページ： 99-103  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 指向性自己集合は,自己組織化重合体は導波パターンによって定義されたまたは影響を所望の形状に従うことを強制される方法である。このような導波パターンは,表面電位,閉じ込めまたはその両方を用いる回路関連トポロジー,基板上にパターン化することができるをもたらす高分子配置を達成した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 自己組織化 ,  位相幾何学 ,  *パターン形成 ,  重合体 ,  高分子 ,  指向性 ,  形態 ,  自己集合 ,  表面電位

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： パターン形成 ,  溶液 ,  DSA ,  統合 ,  EDA ,  ツール ,  開発