文献

J-GLOBAL ID：201702239708487041   整理番号：17A1005720

電子ナノビームにより誘発された高分子膜における金属ナノ粒子の合成とパターン形成

Synthesis of Metal Nanoparticles and Patterning in Polymeric Films Induced by Electron Nanobeam

著者 (7件)： YAMAMOTO Hiroki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  KOZAWA Takahiro (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAGAWA Seiichi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  NAITO Muneyuki (Konan Univ., Hyogo, JPN) ,  MARIGNIER Jean-Louis (Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA) ,  MOSTAFAVI Mehran (Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA) ,  BELLONI Jacqueline (Univ. Paris-Sud, Orsay, FRA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 9  ページ： 5335-5340  発行年： 2017年03月09日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銀あるいは金ナノ粒子が負荷された高分子(PS,PMMA)膜を走査電子ナノビームを使用して製作した。この方法では,高分子膜に固溶体の形で埋め込まれた金属(金,銀)イオンがナノビーム照射により還元される。本報は合成に関する前半部と,電子ナノビームによる高分解能のパターニング形成の後半部よりなる。鋳型の選択,ビーム照射量,粒子を成長させるための加熱などの合成条件が検討され,合成条件の最適化が図られた。また非照射部分の溶解についても調べられた。金属ナノ粒子の存在を光吸収およびTEMなどによる観察により確かめた。金属イオンの還元ならびに高分子架橋の機構が導かれた。ナノビームの走査により,非照射部分により隔てられた200nm幅の線が得られた。高分子膜上にナノパターンを製作するという本研究の手法はインプリント金型になど,広範な適用性を備えている。

シソーラス用語： *電子ビーム ,  ナノ構造 ,  *高分子膜 ,  ナノ粒子 ,  *パターン形成 ,  ポリスチレン ,  鋳型【鋳造】 ,  依存性 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  ポリメタクリル酸メチル ,  顕微鏡観察 ,  架橋【高分子】
準シソーラス用語： *ナノビーム ,  *金ナノ粒子 ,  *銀ナノ粒子 ,  照射量依存性

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  物理化学一般その他  (CB01030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電子 ,  ナノビーム ,  誘発 ,  高分子膜 ,  金属ナノ粒子 ,  パターン形成