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J-GLOBAL ID：201702240189175136   整理番号：17A0445372

パルスレーザ蒸着したK Y3F10H0 3+薄膜:基板距離へのターゲットの影響【Powered by NICT】

Pulsed laser deposited K Y 3 F 10 :H o 3+ thin films: Influence of target to substrate distance

著者 (3件)： Debelo N.G. (Private Bag X13, Department of Physics, University of the Free State, Qwa Qwa Campus, Phuthaditjhaba, South Africa) ,  Dejene F.B. (Private Bag X13, Department of Physics, University of the Free State, Qwa Qwa Campus, Phuthaditjhaba, South Africa) ,  Roro K.T. (Energy Center, Council for Scientific and Industrial Research, P.O.Box 395, Pretoria 0001, South Africa)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 190  ページ： 62-67  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ蒸着により作製した市販KY3F10Ho3+蛍光体薄膜の構造,形態および光ルミネセンス(PL)特性に及ぼす基板距離(d ts)へのターゲットの影響を4 7cmの範囲でD ts値に対して調べた。XRDの解析は,最大の結晶粒サイズの高結晶品質の膜は,ターゲット-基板距離4cmまでで得られることを示した。膜の厚さの減少は基板距離への大きなターゲットで観測された。これは基板面積上の標的種の粒子フラックスを減少させるより大きな距離でのレーザ誘起プラズマプルームの半球的膨張に起因していた。Ho3+の~5F_4-~5I_8と~5S_2-~5I_8遷移による540nmでの主PL発光は四つの励起波長を用いて研究した:362%,416%,454及び486nmであった。最高PL強度を考慮基板距離にすべての標的のための454nmの励起で生じた。すべての膜は可視領域で低い反射率と高い吸収によって特性化した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *薄膜 ,  結晶粒径 ,  反射率 ,  発光 ,  光ルミネセンス ,  キャラクタリゼーション ,  *パルスレーザ蒸着 ,  X線回折 ,  蛍光体
準シソーラス用語： 可視領域 ,  励起波長 ,  プラズマプルーム ,  レーザ誘起 ,  結晶品質 ,  蛍光体薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： パルスレーザ蒸着 ,  薄膜 ,  蛍光体 ,  基板距離への標的とする

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルスレーザ蒸着 ,  薄膜 ,  ターゲット