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J-GLOBAL ID：201702240575264844   整理番号：17A0222814

原子層堆積前駆体の表面化学への基板の性質の影響

Effect of the nature of the substrate on the surface chemistry of atomic layer deposition precursors

著者 (4件)： Yao Yunxi (Department of Chemistry, University of California, Riverside, California 92521, USA) ,  Coyle Jason P. (Department of Chemistry, Carleton University, Ottawa, Ontario K1S 5B6, Canada) ,  Barry Sean T. (Department of Chemistry, Carleton University, Ottawa, Ontario K1S 5B6, Canada) ,  Zaera Francisco (Department of Chemistry, University of California, Riverside, California 92521, USA)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 146  号： 5  ページ： 052806-052806-10  発行年： 2017年02月07日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子層堆積(ALD)応用のための有望な銅アミジナート錯体であるCu(I)-sec-ブチル-2-イミノピロリジネートの熱化学的性質を,表面感受性技術,具体的には昇温堆積とX線光電子分光法(XPS)の技術の組み合わせを用いて探った。調べた基板は遷移金属(Ni(110)とCu(110))の単結晶,酸化薄膜NiO/Ni(110)とSiO2/Ta,酸素処理した金属(O/Cu(110))を含む。ピロリジネート配位子の分解は,金属からのCH₃CN,HCNおよびブテンならびに酸素含有表面からのCOおよびCO₂を含むいくつかの気相生成物の脱着をもたらす。全ての場合において,有機部分の脱水素は金属上のH₂の形および主に金属酸化物からの水として,表面からの水素除去を伴うが,この化学反応のためのしきい値は,激しく変化し,Ni(110)上の270KからO/Cu(110)上の430K,Cu(110)上で470K,NiO/Ni(110)上で500K,SiO₂/Taで570Kまでの範囲である。Cu 2p_3/2XPSおよびCu L3 VV Auger(AES)スペクトルの両方で銅還元も観察され,Ni(110)では300Kで完了し,Cu(110)では500~600Kでのみ発生する。NiO/Ni(110)では,Cu(I)とCu(0)の両方が200~500Kで共存し,SiO₂/Taでは500~600Kの間で変化が起こるが,銅原子が重要なイオン特性を保つことにより,還元は限られている。より高い温度で吸着を試験するためのさらなる実験は,Ni(110)およびNiO/Ni(110)の両方で約300~450Kの間のALDに必要な自己制限的な前駆体取り込みのための温度窓の同定をもたらした。SiO₂上の範囲は,より広いと予め決定されており,約500Kで上限に達した。最後に,共反応物としてのO₂を用いたALDサイクルによる銅金属膜の堆積をNi(110)基板上で成功裏に達成した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  銅化合物 ,  化学的性質 ,  *錯体 ,  X線光電子分光法 ,  基板 ,  銅 ,  ニッケル ,  酸化物 ,  薄膜 ,  配位子 ,  アルケン ,  脱着 ,  脱水素 ,  金属酸化物 ,  Augerスペクトル ,  還元 ,  *前駆体 ,  二酸化ケイ素 ,  *界面化学 ,  *効果 ,  吸着 ,  シアン化水素 ,  金属薄膜 ,  脂肪族ニトリル
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  金属基板 ,  酸化物薄膜 ,  ブテン ,  表面化学 ,  *基板効果 ,  金属還元

分類 (1件)： 気相めっき  (WC08022K)

物質索引 (1件)： アセトニトリル

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子層堆積 ,  前駆体 ,  表面化学 ,  性質