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J-GLOBAL ID:201702241162258926   整理番号:17A1823237

化学蒸着と原子層堆積プロセスのための反応経路解析:チタニア薄膜蒸着の研究【Powered by NICT】

Reaction path analysis for chemical vapor deposition and atomic layer deposition processes: A study of titania thin-film deposition
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巻: 254  号: 10  ページ: ROMBUNNO.201700091  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0599A  ISSN: 0370-1972  CODEN: PSSBBD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,薄膜堆積反応ネットワークモデルの数学的構造と動的挙動を研究するための反応グラフベース解析法を導入した。このアプローチを用いて,著者らは反応ネットワーク不変量を同定し,薄膜蒸着反応機構に対するこれらの保存されたモードの化学的重要性を決定した。さらに,種反応グラフは反応速度論的モデリング研究の初期段階で問題のある反応ネットワークから「適切な」識別するために使用できる。化学蒸着成長モードへの原子層堆積からの遷移が観測された結果は,チタニア蒸着プロセスとの関連で提示した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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半導体薄膜 

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